Hocam makinenin ne yaptığını anlatmaya çalışsam sayfa yetmez, merak eden internetten bakabiliyor zaten, konunun asıl odağı ev ortamında yapılmış olan sensörMuhtemelen kendim de ayni seyi yapiyorum fakat bu elestirimden sonra daha dikkat edecegim.
Konu ile icli disli olmadigim icin PVD makinesi nedir bilmiyorum ve internete bakinca Physical Vapor Deposition oldugunu ogrendim. Bu konuyu biliyorum ama kisaltmasi aklimda kalacak kadar icli disli degilim.
Tum forum uyeleri olarak dunyaca sadece bu konuda calisanlarca bilinen ama digerlerinin bilmeyecegi kisaltilmis isimlerini kullanacaksak Mesela PVD ardindan (Physical Vapor Deposition) yazmak sanirim iyi bir uygulama olacaktir.
Tabiki bu forumda MOS (Metal Oxide Semiconductor) diye aciklama yapmamiza gerek yok. Neyin aciklamali yazilacagina konuyu acan uye karar verebilir.
Yapay zekaya metal kaplama için gerekli vakum basıncını sordum.metal buharı ile kaplama yapmak için vakum basıncı ne olmalı?
Metal buharı ile kaplama (örneğin, fiziksel buhar biriktirme - PVD) işlemi için genellikle yüksek vakum koşulları gereklidir. Bu tür kaplama işlemlerinde, vakum basıncı genellikle 10^-3 Torr (yaklaşık 0.001 Torr) ile 10^-6 Torr (yaklaşık 0.000001 Torr) arasında olmalıdır. Bu basınç aralığı, metal buharının hedef yüzeye daha iyi bir şekilde ulaşmasını ve kaplama kalitesinin artmasını sağlar.
Daha düşük basınçlar, daha az gaz molekülü bulunması anlamına gelir, bu da buharın daha az dağılmasına ve daha homojen bir kaplama elde edilmesine yardımcı olur. Ancak, spesifik uygulama ve kullanılan malzemelere bağlı olarak ideal vakum basıncı değişebilir.
PVD Kaplama hızı 1-10 nm/dk imiş.0.1 mm metal kaplama için vakumda kaç saniye beklemeli
0.1 mm kalınlığında bir metal kaplama için vakumda bekleme süresi, birçok faktöre bağlıdır ve kesin bir süre vermek zordur. Bu faktörler arasında:
- Kaplama Yöntemi: Kullanılan kaplama yöntemi (örneğin, fiziksel buhar biriktirme - PVD, kimyasal buhar biriktirme - CVD vb.) bekleme süresini etkiler.
- Metal Türü: Kaplama yapılacak metalin buharlaşma hızı ve özellikleri, kaplama süresini etkileyebilir.
- Kaplama Hızı: Kaplama hızı, genellikle nanometre veya mikrometre cinsinden ölçülür ve kullanılan ekipmanın özelliklerine bağlıdır. Örneğin, PVD yöntemlerinde kaplama hızı genellikle 1-10 nm/dk arasında olabilir.
- Hedef Yüzeyin Boyutu: Kaplama yapılacak yüzeyin boyutu ve şekli, kaplama süresini etkileyebilir.
- Vakum Koşulları: Vakumun kalitesi ve basıncı, buharın hedef yüzeye ulaşma hızını etkileyebilir.
Örnek Hesaplama
Eğer kaplama hızı 5 nm/dk (0.005 µm/dk) olarak varsayarsak, 0.1 mm (100 µm) kalınlığında bir kaplama için gereken süre şöyle hesaplanabilir:
Süre = Kaplama kalınlığı / Kaplama hızıSüre = 100 µm / 0.005 µm/dk = 20,000 dk
- Kaplama kalınlığı: 100 µm
- Kaplama hızı: 0.005 µm/dk
Bu durumda, 0.1 mm kalınlığında bir kaplama için yaklaşık 20,000 dakika (yaklaşık 13.9 gün) beklemek gerekebilir. Ancak bu, sadece bir örnek hesaplamadır ve gerçek süre, yukarıda belirtilen faktörlere bağlı olarak değişebilir.
Kesin bir süre belirlemek için, kullanılan ekipmanın özellikleri ve kaplama koşulları hakkında daha fazla bilgiye ihtiyaç vardır. Genellikle, kaplama süresi ve hızı, deneysel olarak belirlenir ve optimize edilir.
Hangi metal ile kapladığını yazmamış. Gümüş değildir.Aşağıdaki video da arkadaş bildiğiniz apartman dairesinde kendi yaptığı PVD makinesi ile gümüşten ışık sensörü yapıyor.
Enstrüman, kaplanan malzeme ve kullanılan güce göre değişir o, örneğin Magnetron Sputtering ile Thermal Evaporation karşılaştırması yapsak Thermal evaporation 10-20 kat daha hızlıdırPVD Kaplama hızı 1-10 nm/dk imiş.
vakumda 0.1mm metal kaplama için 13.9 gün beklemeli cevabını verdi.
0.001 Torr minimum, ne kadar düşük vakum o kadar temiz kaplama, genelde 10 üzeri -6 mTorr civarı bir basınç kullanılırYapay zekaya metal kaplama için gerekli vakum basıncını sordum.
1Torr=1mmHg
0.001 Torr dan daha düşük olmalıymış.
Akkor filamentli lambalarda yanıp kopunca lamba içinde kaplama oluyordu. Ama kalınlığı ne kadar bilmiyorum.Enstrüman, kaplanan malzeme ve kullanılan güce göre değişir o, örneğin Magnetron Sputtering ile Thermal Evaporation karşılaştırması yapsak Thermal evaporation 10-20 kat daha hızlıdır